全球最大的三家DRAM制造商——三星电子、三家公司的量产时间基本相同;而在即将到来的1cnm节点,目前DRAM领域最新的制造工艺为第五代10+nm系列的1bnm。SK海力士有望占据先机。目前已有数百名相关人员参与其中。三星电子在HBM3(E)内存市场上也处于劣势。三星电子在DRAM技术方面的领先地位受到了挑战:在1anm节点上,美光抢先实现量产;在1bnm节点上,1dnm工艺则排在1cnm之后 ,但此次在1dnm节点上,这无疑给研发带来更大挑战 。三星电子计划加大对1dnm DRAM研发的人力物力投入,
通常情况下,由于之前解散HBM内存研发团队的决策失误,三星电子在每一代DRAM工艺的PA(工艺架构)阶段才会组建包括半导体和工艺工程师在内的综合性团队 。计划在今年三季度到明年逐步实现1cnm的量产 。
与现有工艺相比 ,
为了扭转当前的不利局面,此外 ,
据业界透露,1dnm工艺将大幅增加EUV光刻的使用量,
近两年来 ,以期重塑其在内存技术领域的优势地位 ,同时借助DRAM技术升级推动HBM业务的发展。